半導体リソグラフィーが大きく変わろうとしています。先端分野ではEUV投資が大きく拡大、先端ロジックに加えてDRAMなどメモリー分野での採用が進み、市場規模が大きく拡大を遂げています。Hihg-NAの量産適用に向けた検討が進むなか、「ラージマスク＝12インチマスク」に関する議論もいよいよ本格化してきました。マスク大型化によって部材・装置などインフラ面での刷新が求められ、今後設備投資を含めて大きなテーマとなりそうです。 　先端リソ分野では次世代フォトレジストに関する話題も盛り上がりを見せています。既存のCAR（化学増幅型レジスト）の解像限界から、MOR（メタルオキサイドレジスト）やドライレジストの次世代の新規レジストの量産工程での採用が進んでおり、フォトレジストや原料メーカーにとって大きな事業機会となりつつあります。 　こうした状況をもとに、今回新たに「半導体リソグラフィー」に焦点を当てたセミナーを企画しました。オンライン形式はとらず、話題のテーマを講演者・参加者ともに深く・ディープに議論するために会場限定セミナーとして企画しています。ぜひ実際に足を運んでいただき、今後の参加者の皆様の日々のご活動にお役立ていただければ幸いです。