【2】液晶ディスプレー製造プロセス(担当:甕)
◆薄膜トランジスタ(TFT)アレイ工程(前工程)
①回路をCADで設計→フォトマスク(基板に回路を焼き付ける際の原盤 )作成
②絶縁膜やシリコン膜、金属膜といった薄膜を基板上に形成
③フォトレジスト(感光材)塗布→ガラス基板上にフォトマスクの回路パターンを投影露光→現像
④膜の露出している部分(フォトレジストの回路パターン像で覆われてないところ)をエッチングで除去
⑤②~④を繰り返してTFTアレイを作ります
◆カラーフィルター形成
①ブラックマトリクス形成:ブラックレジストを使って格子状やストライプ状のパターンを露光技術で形成
②赤・緑・青(R・G・B)の3原色のカラーレジスト塗布
③保護膜&透明電極形成
◆セル・モジュール工程(後工程)
①配向膜形成:基板にポリイミドなどの樹脂を塗布し、その後に液晶分子を並べるための溝を形成
②カラーフィルターと配向膜を重ね合わせ→さらに液晶パネル内を封止(シール剤塗布)
③液晶滴下・貼り合わせ
④基板をパネルのサイズに切断
⑤偏光板やドライバIC、バックライトの取り付け
⑥欠陥、色度、色むら、コントラストなどを検査