フォトレジスト各社、先端リソで独自路線
MORはじめ複数候補、成熟世代では中国勢意欲
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先端リソグラフィー分野において、フォトレジストサプライヤーが各社各様で独自路線を打ち出している。EUVリソが量産普及する一方で、先端プロセスではそのコスト増が負担となっている。さらに次世代では、より高額な高NA（開口率＝0.55）対応のEUV装置も必要となるため、半導体メーカーは材料技術によるブレークスルーを期待する向きが強まっている。レジスト各社もこれを商機と捉え、各社から様々な提案が行われている。一方、成熟世代では中国現地のレジストメーカーが事業拡大に意欲を示しており、中国国産化の波がレジスト分野にも及び始めている。
（以下、本紙2025年10月16日号1面）
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電子ディスプレー・電池
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製造装置・材料・FA・ロボット
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産官学のフューチャープラン No.364
岩手県 第３回、アイオー精密
かごしま半導体の現状と展望を追う No.3
鹿児島県産業立地課
インタビュー
日東紡 執行役 電子材料事業本部副本部長兼電材ユニット長兼マーケティング部長 三上雄広氏
積水成型工業（株） 代表取締役社長 廣野裕治氏
INSOL-HIGH（株） 代表取締役 CEO 磯部宗克氏
（株）東京精密 代表取締役社長CEO 木村龍一氏
工場ルポ
三菱電機 パワーデバイス製作所 熊本事業所 泗水工場
リソグラフィー／フォトレジスト技術特集
リソグラフィー装置／エッチング装置／リソグラフィー材料