半導体産業の成長の根幹を担うリソグラフィー技術の展望に変化が出始めている。次世代候補の筆頭であるEUV（極端紫外線）の導入が光源やマスク、レジスト分野で課題を抱え、遅々として進まないなか、10／7nmといった次々世代においても、既存のArF液浸にMPT（マルチプル・パターニング）を加えた延命技術で乗り切ろうといった動きが活発化してきた。一方で、キヤノンが米モレキュラー・インプリンツ（MII）を買収したように、一時は候補から外れたかに見えたナノインプリント（NIL）技術も再び注目を集めており、半導体リソグラフィーの将来像はより一層掴みにくくなってきている。

　「ArF液浸で勝負する」―。半導体露光装置を展開するニコンの牛田一雄精機カンパニープレジデントが3月に開催された技術説明会で発したコメントである。以前はEUVで先行するASMLに対する負け惜しみとも受け止められていたが、ここ最近は同社の選択が間違っていなかったと思わせるほど、EUVの本格導入に向けた動きは停滞している。
　EUVは経済性などを除く部分で、主に光源とマスクで技術課題を抱えている。光源開発では目標が250Wと定められているが、現状、ASML傘下のサイマーの出力は単体で70W（12時間稼働）、装置に組み込んだ場合は30W（6時間稼働）にとどまっており、目標達成にほど遠い状況だ。マスクにおいても欠陥低減や検査・リペア技術の確立が求められているほか、ペリクル（保護膜）の新規開発も叫ばれ始めている。また、マスクリペア時に必要なAIMS（空間像測定システム）の早期確立も求められている。

---

◇ アップル AP受託生産、15年は2社体制に、サムスンが14nmで再参入
◇ 富士電機、パワーデバイス生産拡大、津軽工場 自社比率が過半に
◇ タワージャズ、西脇工場を閉鎖、パナソニックとの合弁受け
◇ 富士通、ヘルスケアを強化、300億円の投資も計画
◇ 経済産業省、ニッチトップ100社選定、資金・人材面でサポート
◇ シャープ、介護予防を事業化へ、タブレットで実証実験
◇ 三井ハイテック 電子部品事業、6倍強の増益を確保、海外でも高難易度品生産
◇ nms、パナの電源事業譲受、EMSのキー技術に
◇ 山水エレクトロニクス、低温でめっき処理、フレキシブル基板向け
◇ オムロン プレシジョンテクノロジー、スマホ向けBL好調、
　　過去最大の設備投資実施
◇ 三菱電機、技術管理棟を着工、液晶開発に15年1月稼働
◇ イー・インク 13年業績、売上高が3割減少、電子書籍以外の市場開拓
◇ IQE 13年業績、買収効果で44％増収、ワイヤレス部門が寄与
◇ ローム、日本大学と連携、医療機器を共同研究
◇ 三益半導体工業、再生ウエハー堅調、半導体事業 増収を維持
◇ 東芝、OPVで効率10％超、新構造採用で性能改善
◇ NEC、A123を買収、蓄電システムを100億円で