電子デバイス産業新聞(旧半導体産業新聞)
新聞情報紙のご案内・ご購読 書籍のご案内・ご購入 セミナー/イベントのご案内 広告のご案内
2020/10/22(2420号)主なヘッドライン
ロジック/ファンドリー投資、「ファーウェイ不在」でも活況
TSMC 来期も高水準投資、5nm能力 10万枚体制に


 先端ロジック/ファンドリー投資は、2021年も高い水準が続きそうだ。米国政府のファーウェイに対する制裁強化で傘下のハイシリコン(海思半導体)からの先端プロセス需要は消失しているものの、アップルに加えてAMDやクアルコムなどがこれを穴埋めする存在として台頭。台湾TSMCの来期投資も引き続き高い水準が見込まれている。同様にサムスン電子も既存の8/7nmに加えて、5nmの能力増強に着手する。一方で、方針転換を図っているインテルや、制裁対象として浮上しているSMICに投資減額のリスクがあり、投資環境を巡っては懸念材料があることも見逃せない。

 米商務省の追加制裁により、ファンドリー最大手のTSMCはファーウェイに対するウエハー出荷を停止している。ファーウェイ傘下のハイシリコンは先端プロセスを消費するユーザーとして近年、存在感を増しており、TSMCの5nmを構成する顧客においてもアップルに次ぐ規模があった。
 そのハイシリコンからの需要が実質ゼロになったことで、来期以降の先端プロセスの投資規模が減少してしまうという懸念が業界内では浮上していた。しかし、それを払拭するかのように、TSMCは20年第2四半期(4~6月)決算において、20年通年の設備投資額を従来の150億~160億ドルから160億~170億ドルに引き上げた。来期も今年並みの投資規模となる公算が大きく、5nmの追加投資、および次世代の3nm向け量産投資が中心案件となる。
 5nmは現状で月6万枚弱の生産能力を保有しているが、年末から追加投資に着手する見通しで、21年上期までに月8.5万枚、21年末までに10万枚体制に引き上げる見通しだ。ハイシリコンに代わり5nmのキャパシティーを埋めてくれる存在として、期待されているのがAMD。同社は22年までに「Zen 4」アーキテクチャーを採用したデスクトップ向けプロセッサー「Ryzen」を投入する。また、クアルコムも5nmを用いた「SnapDragon 875」について、現状はサムスン電子を主力委託先として位置づけているが、次世代品についてはTSMCをメーンに据えていく方針だ。

(以下、本紙2020年10月22日号1面)




自動車産業・部品
堀場製作所、RDE規制に対応、新アプリで開発効率化
Hella、6~8月は11%減収、欧米市場は予想より回復
IT・半導体産業
岩崎電気、空港で実証に参画、UV-C除菌装置開発へ
EDGEMATRIX、体温計測・顔認証端末を発売、エッジAI処理で感染対策
九州大学とCIAC、ペロブスカイトレーザー、室温下で安定発振
QXIC、装置搬入は21年9月に、信用不安でPJ停止懸念も
韓国政府、AI半導体を育成強化、30年にシェア20%獲得へ
米国のSMIC制裁、28nm以降で影響大、200mm市場も逼迫か、TrendForce調べ
プリント回路・実装
日清紡グループとエレファンテック、立体配線技術で提携、ADAS部品を量産へ
SCREEN PE ソリューションズ、ツインDI装置、生産性を約50%向上
日本ファインセラミックス、SiN基板を量産 25億円で新棟完成
液晶・ディスプレー
アレディア、8000万ユーロを調達、LED量産工場新設で
OKI、3Dでフルカラー化、モノリシック型マイクロLED
凸版印刷、空中タッチディスプレー、22年から本格量産
電池・新エネルギー
日本触媒、LiB用電解質、新生産設備を建設へ
中国・四川省、水素産業の集積図る、エネルギー計画を策定
製造装置・部材関連・FA
安川電機 3~8月期、投資減で8%減益、5G関連の需要は堅調
東洋合成工業、レジスト向け感光材でトップ、新製造棟が完成、能力2倍に
早稲田大学ら、新型3D印刷を開発、金属とプラの両方に対応
医療・航空・ロボット
TRI、最新の研究成果公開、ロボが天井を移動し作業
Magazino、2100万ユーロを調達、ロボ用ソフトなど拡販へ
福島SiC応用技研、31億円を資金調達 SiCでがん治療
一般電子部品
台湾電子部品メーカー 7~9月期、需要強く増収継続、9月は大型連休前特需も
トーキン、スーパーキャパシタを拡大、水溶液系電解液に強み



『一心千里』 ~走っていれば、見えてくる 永田 隆一 No.133
情報は人につく 幸せも人に付く
日本半導体産業 激動の21年史(2000年~2020年) No.82
2015年(第3回)ニッポンのロボット戦略発進



インタビュー
東京ロボティクス(株) 代表取締役 坂本義弘氏



リソグラフィー/フォトレジスト技術特集
リソグラフィー装置/エッチング装置/リソグラフィー材料



サイト内検索