電子デバイス産業新聞(旧半導体産業新聞)
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2019/4/11(2342号)主なヘッドライン
半導体フォトマスク、「微細化・顧客拡大」で活況
EUV実用化も追い風、レガシーノードも需要拡大

外販マスクベンダーの業績も好調(写真:凸版印刷のフォトマスク)
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 メモリーを中心に半導体市況が低迷するなか、半導体フォトマスク業界が例外的な成長を見せている。微細化に伴い多重露光工程が増えていることに加え、先端プロセスを採用する顧客数の拡大が市場拡大を後押しする。さらに次世代露光技術であるEUVの実用化も装置・材料業界に追い風を吹かせている。最先端だけでなく、65~28nmなどの旧来プロセス、いわゆる「レガシーノード」も活況を呈しており、外販マスクベンダーなどは対応に追われている。

 メモリー市況の低迷に伴い、半導体メーカーのみならず装置・材料業界も低空飛行を余儀なくされているなかで、マスク業界は不況知らずともいえる状況だ。もともと、フォトマスクは単一製品を大量生産するメモリー分野よりも、ロジック分野に対する依存度が高く、メモリー低迷の影響を受けにくい産業構造となっている。

(以下、本紙2019年4月11日号1面)



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