半導体フォトマスク、生産・調達戦略に変化
TSMCなどEUVに傾注、光リソ中心に外販市場拡大へ
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大手半導体メーカーを中心に、半導体フォトマスクの生産・調達戦略に変化が生じている。EUVリソグラフィーが量産レベルで実用化されてきたことが大きな契機となり、外販マスクショップを積極的に活用する方針にシフトしている。今後、光リソ分野を中心に外販市場のさらなる拡大が期待される。競合環境を見ても、中国地場でもマスクショップが複数社立ち上がっており、レガシー市場を中心に競争が激化しそうだ。
2010年以降、TSMCやサムスン、インテルなどの大手半導体メーカーはフォトマスクの内製志向を強めている。半導体フォトマスク市場に占める内製比率は13年に5割を超え、足元ではEUVマスクの登場も相まって7割まで達している。
（以下、本紙2022年4月21日号1面）
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